Romania – Electron microscopes – Echipament pentru nanolitografie

Achiziţia unui Echipament de tip „sistem de litografie cu fascicul de electroni” (Electron Beam Lithography – EBL), sau "echipament pentru nanolitografie", cu fascicul gaussian și scanare vectorială, dedicat aplicațiilor de înaltă rezoluție și viteză. Sistemul trebuie să includă toate subsistemele necesare, precum și toate componentele software și de control asistat de calculator necesare operării complete. Singurele utilități puse la dispoziție de către achizitor vor fi: alimentarea electrică, aerul comprimat curat (CDA) și azotul uscat. Echipamentul ce urmează a fi achiziționat va fi folosit exclusiv în scop de cercetare avansată în domeniul nanotehnologiilor, în special pentru structuri sub-10 nm și modele complexe pe substraturi de dimensiuni variate. Echipamentul va fi integrat în linia pilot de micro- și nanofabricare a dispozitivelor semiconductoare, în cadrul direcției de dezvoltare privind litografia de înaltă rezoluție. Configurația echipamentului este fundamentată pe specificațiile prevăzute în caietul de sarcini, elaborate pentru a răspunde cerințelor avansate de structurare la scară nanometrică, necesare procesării moderne în activitățile de CD în domeniul semiconductorilor. Litografia cu fascicul de electroni (EBL) este esențială pentru definirea cu precizie sub-20 nm a structurilor funcționale, fiind singura tehnologie fezabilă pentru prototiparea rapidă a dispozitivelor în regim de cercetare. Aceasta permite realizarea de structuri experimentale critice, utilizate în evaluarea performanțelor și în rafinarea modelelor tehnologice, inclusiv pentru validarea etapelor de proiectare și dezvoltare a circuitelor integrate în regim multi-layer. Echipamentul urmează a fi utilizat în vederea realizării de noi tipuri de dispozitive și prototipuri cu funcționalități extinse (ex: dispozitive electronice, senzori bazați pe fizici variate, componente fotonice integrate), în funcție de cerințele din cadrul proiectelor CDI naționale și europene.